Заспокійлива маска з полином I'm Sorry For My Skin Real Mugwort Calming Mask 23 мл

Маска I'm Sorry For My Skin, Real Mugwort Calming Mask натуральний засіб, який забезпечує якісний догляд для чутливої ​​та проблемної шкіри. До її складу входять рослинні екстракти, які насичують клітини вітамінним комплексом. Маска щільно приклеюється до обличчя, відмінно зволожує та відновлює епідерміс.

Екстракт полину в основі продукту знімає почервоніння та подразнення, має ранозагоювальну та антибактеріальну дію.
Екстракт ламінарії покращує мікроциркуляцію крові, нормалізує гідроліпідний баланс епідермісу, посилює захисні функції шкіри.
Гіалуронат натрію стимулює вироблення власного колагену та еластину, утримує вологу у клітинах, розгладжує мімічні зморшки.
Екстракт акмели городньої знімає набряклість, тонізує шкіру, робить її пружною та підтягнутою.
Лецитин відновлює пошкоджені колагенові волокна, розгладжує глибокі зморшки, ліфтинг-ефект, уповільнює передчасне старіння тканин.
Екстракт екліпти бореться з вугровим висипом, акне та комедонами, регулює роботу сальних залоз, звужує пори, дбайливо освітлює шкіру, усуває пігментні плями та сліди постакне.

Особливі умови використання
Особливих умов використання немає

Особливі умови поєднання
Особливих умов поєднання немає

Застосування
Наклей маску на очищену, тонізовану шкіру, почекай 15-20 хвилин, потім зніми тканинну основу.

Склад
Water, Methylpropanediol, Dipropylene Glycol, Laminaria Japonica Extract, Eclipta Prostrata Leaf Extract, Acmella Oleracea Extract, Artemisia Princeps Extract(10Ppm), Sodium Hyaluronate, Hydrogenated Lecithin, Panthenol, Carbomer, Tromethamine, Saccharomyces Ferment Filtrate, Disodium EDTA, Fructooligosaccharides, Beta-Glucan, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, 1,2-Hexanediol, Hydroxyacetophenone.